高纯氩气主要用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工业气体氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求。一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用仁怀工业气体氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。

氩气是一种稀有、惰性气体，具有高密度和低导热性。此仁怀工业气体广泛用作金属焊接、冶炼、加工等保护气，用于灯泡和各种放电器内充填气，气相色谱分析用载气，还用于激光器和手术用止血喷枪等。氩气可与多种气体混配，制成用途更广泛的特种气体。工业气体氨气合成氨的工业化生产，为各种氮肥的制造提供了充足的原料。氨还用于各种胺基、酰基类化合物的生产，制作炸药也要耗用大量的氨。氨是一种适用于大、中型制冷机的中温制冷工质，是应用最早最广泛的冷媒。氨也是冶金、医药等工业原料。

为了研究其反应的机制，我们架设了一套真空系统。在两个不的桶中，分别充入氯气与丙烯，再充入氮气以达到想要的比例。仁怀工业气体利用流量控制器来控制氯气与丙烯的流量以控制氯气与丙烯在反应器中的分压光源则是利用汞灯搭配一个特定波长滤片，使得通过反应器的紫外光之波长落在氯分子键解离能附近的大吸收峰。如此，便可产生氯自由基而与丙烯分子进行反应。形成的产物之后通过一个填充碳酸钾的管柱，以滤掉反应中可能生成的氯化氢分子。利用一个低温收集器(约-95℃)，将产物收集起来利用质子核磁共振仪进行分析。工业气体除了实验的部分，另外还使用了理论计算软体，利用密度泛函数理论，配合不同的基底函数；针对可能的产物、副产物、过渡态以及反应机制进行计算，并与实验结果互相对照。

工业气体乙炔气瓶应根据有关规定补足丙酮，同时不能过量；仁怀工业气体根据丙酮量确定乙炔充装量，严格控制充装速度，工业气体严禁过量充装；使用经检验合格的工业气体乙炔气瓶。工业气体乙炔瓶放置地点不得靠近热源和电器设备，与明火距离不小于10m；直立使用；严禁放置在通风不良或工业气体放射性射线源场所；严禁敲击、碰撞，瓶体引弧或放置在绝缘体上；严禁暴晒，严禁用40摄氏度以上热源加热瓶体；工业气体乙炔瓶和工业气体氧气瓶放置在同一小车上，用非可燃材料隔离；配置专用减压器和回火防止器；严禁手持点燃的焊割工具开闭工业气体乙炔气瓶；工业气体乙炔瓶使用过程中发现泄露，及时处理；留有0.05MPa的余压。