高纯气体一般用在集成电路、半导体和电真空器件制造中用作保护气和运载气，化学气相淀积时的载气，液体扩散源的携带气，在高温扩散炉中用作器件的保护气。氩气高纯氮气在外延、光刻、清洗和蒸发等工序中，作为置换、干燥、贮存和输送用气体。显像管制造中要求氮气纯度为99.99%以上。在航天技术中，液氢加注系统必须先用超高纯氮气置换，再用超高纯氮气置换。对于高纯气体，任何微小的污染都会严重影响气体的质量，因此气体贮存和运输过程中的洁净和高度密封性特别重要。清镇氩气高纯气体主要采用高压钢瓶或低温液化气体容器贮存和运输。高压钢瓶坚实耐用，运输和使用灵活，气体无损耗，但气体纯度稳定性较差；低温液化气体容器单位容积贮量很大，但有气体排放损耗。

氮气主要用作保护气体、吹扫气体、载气、干燥气体等。在金属热处理工艺过程中氮气作为保护气体，目的是为提高金属材料、零件的质量、光洁度等。在电子工业中清镇氩气高纯氮气是半导体集成电路生产工艺不可缺少的保护气、载气。在石化行业中氮气作为保护气、载气，目的是确保石化生产的顺利、安全运行，氮气也是合成氨生产的主要原料气。在建材工业的浮法玻璃生产中，氮气作为锡槽的主要保护气，以实现浮法生产工艺和提高玻璃质量。此外，可以利用氧作氧化剂进行磁流体发电；利用氧气净化污水，利用氩气氧气在采矿业中进行深井作业；利用氧气进行深海打捞，潜水作业；利用氧气抢救窒息病人，临危病人；利用氧气保健，如高原登山运动员、地质人员、边疆巡逻战士等特殊人群使用和一般人员泡氧吧等。

为了研究其反应的机制，我们架设了一套真空系统。在两个不的桶中，分别充入氯气与丙烯，再充入氮气以达到想要的比例。清镇氩气利用流量控制器来控制氯气与丙烯的流量以控制氯气与丙烯在反应器中的分压光源则是利用汞灯搭配一个特定波长滤片，使得通过反应器的紫外光之波长落在氯分子键解离能附近的大吸收峰。如此，便可产生氯自由基而与丙烯分子进行反应。形成的产物之后通过一个填充碳酸钾的管柱，以滤掉反应中可能生成的氯化氢分子。利用一个低温收集器(约-95℃)，将产物收集起来利用质子核磁共振仪进行分析。氩气除了实验的部分，另外还使用了理论计算软体，利用密度泛函数理论，配合不同的基底函数；针对可能的产物、副产物、过渡态以及反应机制进行计算，并与实验结果互相对照。

高纯氩气主要用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求。一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用清镇氩气氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。

反应失控引起爆炸：清镇氩气告诉你多数工业气体高压下，发生氧化、卤化、聚合等放热反应。这些反应在容器内发生时，反应条件控制不当或搅拌器发生故障、停电、停水而造成反应热蓄积，反应体系的温度迅速增加，使反应容器内压力剧增而发生爆炸。气体泄漏引起爆炸：易燃气体泄漏后，与空气混合达到一定浓度时，在点火源的作用下会发生爆炸。氩气告诉你根据爆炸理论，易燃气体在空气中爆炸必须具备以下条件：一是易燃气体与空气形成的混合物浓度达到爆炸极限，形成爆炸性混合气。二是有能够点燃爆炸性混合气的点火源。

激光混合气中发生气体是激光发生器上用来产生激光的气体，对气体质量要求高，激光混合气配制精度要求高，高纯二氧化碳纯度达99.999%，高纯氮气的纯度99.999%，清镇氩气高纯氦气的纯度要求99.999%，二氧化碳是产生激光的，氦气是冷却激光器的，氮气是平衡气体，气体中的水分、氧份、有机气体杂质对激光机的镜片损伤特别大，能快速减少镜片的寿命。所以激光机对这些气体的质量要求特别高。激光切割辅助气体主要是干燥空气、高纯氮气或工业氧气，当切割不锈钢板或是切割铝板时一般使用高纯氮气作为辅助气体，氩气一般压力要求比较高。切割碳钢时一般使用氧气起到冷却切边和加速燃烧碳钢已提高切割速度。当然，当钢瓶厚度薄，对切割质量要求不高时可以用干燥空气替代高纯氮气等辅助气体。切割辅助气体一般质量要求不高，关键是价格便宜，压力适合。